光刻膠市場規(guī)模從10年至今一直在擴大，據(jù)統(tǒng)計，10年至今，這一數(shù)值的年均復(fù)合增長率在5.4%左右。那個，市場前景如此廣闊的光刻膠究竟是什么呢？我們一起來了解一下。

半導(dǎo)體光刻膠是利用光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)光刻工藝將所需要的微細圖形從掩膜版轉(zhuǎn)移到代加工基片上的圖形轉(zhuǎn)移媒介，其作用原理是利用紫外光，準分子激光，電子束，離子束，X射線等光源的照射或輻射光刻膠，使其溶解度發(fā)生變化，最終得以在晶圓上刻蝕出需要的圖形。在集成電路和半導(dǎo)體器件的微細加工方面，光刻膠可謂功勛卓著。同時，在平板顯示，LED，PCB印雙線路板等過程中，光刻膠也占據(jù)著一席之地。

主要成分和溶劑共同組成了光刻膠。主要成分包括樹脂，單體，光引發(fā)劑和添加助劑，樹脂和單體在其中占據(jù)了極大比重，一般樹脂會占據(jù)主要成分的50%-60%，單體則是35%-45%不等。溶劑是光刻膠中含量最大的成分，可以讓光刻膠的各組成部分溶解到一起，是后續(xù)光刻化學(xué)反應(yīng)的重要介質(zhì)。以上就是關(guān)于光刻膠的運行機制和組成要素的全部.

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